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Schichten aus nanokristallinem Diamant
 

 

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Allgemeines zu CVD Verfahren:

Die Herstellung von Diamantbeschichtungen erfolgt in der Regel mit Hilfe der chemischen Gasphasenabscheidung (chemical vapor deposition, CVD). Es gibt eine Vielzahl verschiedener Depositionsverfahren, die sich allerdings in zwei Gruppen einteilen lassen: das thermische CVD Verfahren und das Plasma-CVD Verfahren.

Der Einsatz der Plasma-CVD Verfahren (z.B. Mikrowellen-Plasma CVD (MECVD)) beschränkt sich aufgrund der aufwendigen apparativen Voraussetzungen im Wesentlichen auf die Abscheidung von Diamantschichten höchster Reinheit für optische und elektrische Anwendungen. Im Gegensatz dazu wird das Hot-Filament CVD (HFCVD) Verfahren als Vertreter der thermischen CVD hauptsächlich für die Diamantbeschichtung von Werkzeugen für mechanische Anwendungen eingesetzt.

Ein wichtiger Vorteil der Hot-Filament CVD ist der im Vergleich zu MECVD einfachere apparative Aufbau. Zudem bietet HFCVD die Möglichkeit nicht nur planare, sondern auch dreidimensional geformte Bauteile homogen zu beschichten.

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