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Schichten aus nanokristallinem Diamant
 

...ausführlicher:

Eigenschaften des HFCVD Verfahrens:

Am WMtech steht eine kommerzielle Hot-Filament CVD-Anlage zur Abscheidung von nanokristallinem und polykristallinem Diamant zur Verfügung. Diese Anlage (CC800®/DIA5) der Herstellerfirma CemeCon AG erlaubt durch eine flexible Prozesstechnik eine gute Adaptierung der Abscheidebedingungen auf die jeweilige Probengeometrie und gewünschte Diamantqualität.

Die wichtigsten Parameter für die Abscheidung sind die verwendeten Gasflüsse (H2, CH4, N4, O2, Dotiergas B(CH3)3), der Gasdruck p, die Filamenttemperaturen Tfilament sowie der Abstand df-s zwischen den Filamenten und dem zu beschichteten Substrat.

Es können maximal 6 Filamentreihen eingebaut werden, so dass in den daraus resultierenden 5 Zwischenräumen dreidimensional geformte Werkzeuge beschichtet werden können. Für die Beschichtung von planaren Silicium-Wafern stehen speziell angefertigte Substrathalter zur Verfügung. Die HFCVD-Anlage ist dabei in der Lage, 24 Stück 2“-Silicium-Wafer gleichzeitig zu beschichten. Alternativ besteht auch die Möglichkeit zur Abscheidung auf größeren Wafern (z.B. 3“ oder 4“).


HFCVD Anlage CC800®/DIA5
der CemeCon AG

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